Serie TEL CLEAN TRACK MARK

CLEAN TRACK MARK Vz
 - Substratos de 3"-150mm
 - Control Solitario de Wafer/Lote
 - Platos Calientes Apilados
 - Braso sin Succion de Transferencia
 - Uso Amistoso, Interfaz de Operacion de Menu

TEL CLEAN TRACK Vz
caracteriza sistema de dos gradas de platos calientes que reduce huellas en el sistema comparados con sistemeas de su clase. Es ideal para toda clase de substratos, incluyendo GaAs y otros materiales fragiles.

TEL CLEAN TRACK MARK 7/8
 - Substratatos de 125-200mm
 - Control Solitario de Wafer/Control de Lote
 - Braso sin Succion de Transferencia
 - Cuatro Gradas de Platos Calientes
 - SECS I/II, GEM Dócil

El triple braso de transferencia del Sistema de CLEAN TRACK 7/8 incrementa rendimiento do procesamiento sobre sistemas de competencia. Cuatro gradas de platos calientes reduce huellas del sistema mientras realza control de proceso. Reducido uso due quimicos hace este sistema la de menor CoO.