我们的9x系列轨道是为了满足先进的光刻胶处理工艺而设计的,它可以满足不同的生产工艺,包括最先进的CPU的生产,和生产量很大的存储器的生产。9x具有处理100mm到200mm圆片的能力,多层式的热板结构,亚微米(最小可用于0.18微米工艺)的工艺处理能力。加上工艺控制和沾污控制等特性,使得9x系列轨道成为DUV或I线亚微米工艺线上理想的量产工具。
9x系列轨道的另一个关键的自动化特性是它的Multipath® 圆片传输系统,通过同时使用在相邻两个模块中间传输圆片的小机械手和可在所有模块之间传输圆片的主机械手,可以消除由于某些较长的工艺步骤而引起的产量瓶颈,而使各个工艺模块达到最大的使用效能,从而使整机的产能达到最大。Multipath®同时解决了象从PEB热板到冷板这样,要求比较高的工艺步骤之间的圆片传输的问题,因为这样的模块之间有一个小机械手来专门负责两者之间的圆片传输。
9x轨道同时还有一些可供客户选择的功能选件,包括非皮带式的曝光机接口,光刻胶和显影液的温度控制系统,整个机器的温度、湿度控制小环境,光学去边胶(OEBR) ,SMIF, 以及用于聚酰亚胺工艺的涂布、显影、和烘烤。
总之,9x系列轨道通过一种灵活的,紧凑的机器结构来满足各种客户的亚微米工艺的生产需要。